靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。金屬靶材一般是由高純金屬制成。高純鋁靶材就是工業(yè)上常用的耙材中的一種。對于金屬靶材，一般要求表面需要數(shù)控加工，越光滑越好。濺鍍后的模壓盤片能夠在播放器上讀出，為確保讀出信號的強度，需要濺鍍金屬層的反射率達到80％。靶材主要應(yīng)用在ITO導(dǎo)電玻璃、DWDM（高密度多工分配器）、CD-R、CD-RW、DVD、EMI（抗電磁波干擾）、OLED、磁性材料、感測元件、壓電材料、硬化膜、高溫超導(dǎo)等產(chǎn)品上。靶材主要有金屬類、合金類、氧化物類等等。目前靶材主要制造商包括有德國HERAEUS，占率達60%，第二位是日商HITACHI占有率23%，第三位為光洋科占10%，第四位是日商Nikko占6﹪。濺鍍靶材大廠PLANSEE至2010年于奧地利擴廠投資將達1億歐元 充份供應(yīng)全球大尺寸TFT-LCD用靶材。目前，只有中國、美國、日本、德國和法國等少數(shù)國家具備制造濺射靶材的技術(shù)。因此在全球范圍內(nèi)靶格行業(yè)還在處于一種壟斷性非常強的時期。

靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。目前，高端的靶材朝超大尺寸方向發(fā)展，主要有以下兩個原因：(1)因為一次濺射鍍膜過程所生產(chǎn)的器件數(shù)量，與靶材的尺寸成平方關(guān)系。因此，靶材愈大，器件生產(chǎn)的成本越低，產(chǎn)品競爭力越強。這是電子、平板顯示器、太陽能電池板生產(chǎn)企業(yè)不斷追求的目標。(2)由于單個平板顯示器、太陽能電池板等面積越來越大，需要的靶材尺寸也越大，才能滿足薄膜性能的均勻一致性。由于靶材尺寸越來越大，對靶材的生產(chǎn)設(shè)備、制備技術(shù)、靶材結(jié)構(gòu)、及靶材性能要求也越來越高。如要求靶材的密度更高，成份更純、結(jié)構(gòu)均勻性更好等,資金投入也更大。因為濺射鍍膜的過程中，致密度較小的濺射靶受轟擊時，由于靶材內(nèi)部孔隙內(nèi)存在的氣體突然釋放，造成大尺寸的靶材顆�；蛭⒘ｏw濺，或成膜之后膜材受二次電子轟擊造成微粒飛濺。這些微粒的出現(xiàn)會降低器件中薄膜品質(zhì)。如在VLSI制作工藝過程中，每150mm 直徑硅片所能允許的微粒數(shù)必須小于30 個。因此大尺寸靶材的密度要求更高。同時，靶材濺射時，靶材中的原子最容易沿著密排面方向擇優(yōu)濺射出來，材料的結(jié)晶方向?qū)�濺射速率和濺射膜層的厚度均勻性影響較大。因此，對于大尺寸靶材，獲得組織結(jié)構(gòu)細膩、均勻性好的靶材結(jié)構(gòu)對解決上述問題至關(guān)重要。但要在大尺寸靶材中獲得這樣優(yōu)良組織結(jié)構(gòu)，存在較大的難度，需要對以往的生產(chǎn)制備設(shè)備和技術(shù)進行改進。因此，超大尺寸靶材的生產(chǎn)實施，對于提高我國的靶材制備水平，提高器件的質(zhì)量和競爭力至關(guān)重要。

近年來我國電子信息產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展,集成電路、光盤及顯示器生產(chǎn)線均有大量合資或獨資企業(yè)出現(xiàn),我國已逐漸成為了世界上薄膜靶材的最大需求地區(qū)之一。但迄今為止, 日本和德國是世界上從事靶材生產(chǎn)的先進國家，中國大量高性能靶材仍從國外進口。由于國內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)的滯后發(fā)展,目前中國靶材市場很大部分被國外公司占領(lǐng)。隨著微電子等高科技產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,中國的靶材市場將日益擴大,為中國靶材制造業(yè)的發(fā)展提供了機遇和挑戰(zhàn)。