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報告簡介
報告目錄
2023-2027年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)市場發(fā)展現(xiàn)狀及潛力分析研究報告
第一章 晶圓加工設(shè)備概述
1.1 晶圓加工設(shè)備基本介紹
1.1.1 晶圓加工設(shè)備價值
1.1.2 晶圓加工設(shè)備分類
1.1.3 晶圓加工設(shè)備特點
1.1.4 行業(yè)的上下游情況
1.2 晶圓加工相關(guān)工藝
1.2.1 晶圓加工流程
1.2.2 熱處理工藝
1.2.3 光刻工藝
1.2.4 刻蝕工藝
1.2.5 薄膜沉積工藝
1.2.6 化學(xué)機械研磨工藝
1.2.7 清洗工藝
第二章 2021-2023年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
2.1 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)政策環(huán)境
2.1.1 行業(yè)政策概覽
2.1.2 行業(yè)規(guī)劃政策
2.1.3 行業(yè)稅收政策
2.2 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境
2.2.1 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)基本情況
2.2.2 全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
2.2.3 全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)競爭格局
2.2.4 國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)政策分析
2.2.5 中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
2.2.6 國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展需求
2.3 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
2.3.1 全球晶圓加工設(shè)備市場規(guī)模
2.3.2 全球晶圓加工設(shè)備細分市場
2.3.3 中國晶圓加工設(shè)備市場規(guī)模
2.3.4 中國集成電路制造設(shè)備國產(chǎn)化潛力
2.4 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)投招標情況
2.4.1 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)招投標情況
2.4.2 晶圓加工設(shè)備廠商中標現(xiàn)狀
2.4.3 晶圓加工設(shè)備廠商中標動態(tài)
2.4.4 晶圓加工設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險
2.5 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)及建議
2.5.1 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)
2.5.2 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展建議
第三章 2021-2023年中國光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
3.1 光刻設(shè)備概述
3.1.1 光刻機基本介紹
3.1.2 光刻設(shè)備技術(shù)介紹
3.1.3 EUV光刻機制造工藝
3.1.4 主流光刻機產(chǎn)品對比
3.2 全球光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況分析
3.2.1 全球光刻機行業(yè)發(fā)展歷程
3.2.2 全球光刻機行業(yè)上下游布局
3.2.3 全球光刻機行業(yè)銷量規(guī)模
3.2.4 全球光刻機行業(yè)市場規(guī)模
3.2.5 全球光刻機產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析
3.2.6 全球光刻機行業(yè)競爭格局
3.3 中國光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況分析
3.3.1 國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)政策
3.3.2 國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈布局
3.3.3 國內(nèi)光刻機研發(fā)動態(tài)
3.3.4 光刻機行業(yè)面臨問題
3.3.5 國產(chǎn)光刻機發(fā)展建議
3.3.6 國產(chǎn)光刻機破局之路
3.4 2021-2023年中國光刻機進出口數(shù)據(jù)分析
3.4.1 進出口總量數(shù)據(jù)分析
3.4.2 主要貿(mào)易國進出口情況分析
3.4.3 主要省市進出口情況分析
第四章 2021-2023年中國薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
4.1 薄膜沉積設(shè)備概述
4.1.1 薄膜沉積設(shè)備定義
4.1.2 薄膜沉積設(shè)備分類
4.2 薄膜沉積設(shè)備市場發(fā)展情況
4.2.1 全球薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模
4.2.2 全球薄膜沉積設(shè)備競爭態(tài)勢
4.2.3 國內(nèi)薄膜沉積設(shè)備招標情況
4.2.4 國內(nèi)薄膜沉積設(shè)備競爭態(tài)勢
4.2.5 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
4.3 化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
4.3.1 CVD技術(shù)概述
4.3.2 CVD設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈全景
4.3.3 CVD設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
4.3.4 CVD設(shè)備行業(yè)競爭格局
4.4 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景
4.4.1 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)面臨機遇
4.4.2 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)風(fēng)險分析
4.4.3 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢
第五章 2021-2023年中國刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
5.1 刻蝕設(shè)備概述
5.1.1 半導(dǎo)體刻蝕技術(shù)
5.1.2 刻蝕工藝分類
5.1.3 刻蝕先進工藝
5.1.4 刻蝕設(shè)備原理
5.1.5 刻蝕設(shè)備分類
5.1.6 刻蝕設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈
5.2 全球刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
5.2.1 刻蝕設(shè)備市場規(guī)模
5.2.2 刻蝕設(shè)備市場結(jié)構(gòu)
5.2.3 刻蝕設(shè)備競爭格局
5.3 中國刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
5.3.1 刻蝕行業(yè)驅(qū)動因素
5.3.2 刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化情況
5.3.3 刻蝕技術(shù)水平發(fā)展狀況
5.3.4 刻蝕領(lǐng)域技術(shù)水平差距
5.3.5 刻蝕設(shè)備國產(chǎn)替代機遇
第六章 2021-2023年中國化學(xué)機械拋光設(shè)備行業(yè)發(fā)展狀況
6.1 CMP設(shè)備概述
1.1.1 CMP技術(shù)概念
6.1.1 CMP設(shè)備應(yīng)用場景
1.1.2 CMP設(shè)備基本類型
6.2 全球CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
6.2.1 全球CMP設(shè)備市場分布
6.2.2 全球CMP設(shè)備競爭格局
6.2.3 全球CMP設(shè)備市場規(guī)模
6.3 中國CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
6.3.1 CMP設(shè)備市場規(guī)模
6.3.2 CMP設(shè)備市場分布
6.3.3 CMP設(shè)備市場集中度
6.3.4 CMP設(shè)備行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
6.4 CMP設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險
6.4.1 市場競爭風(fēng)險
6.4.2 技術(shù)創(chuàng)新風(fēng)險
6.4.3 技術(shù)迭代風(fēng)險
6.4.4 客戶集中風(fēng)險
6.4.5 政策變動風(fēng)險
6.5 CMP設(shè)備技術(shù)發(fā)展趨勢
6.5.1 設(shè)備拋光頭分區(qū)精細化
6.5.2 清洗單元多能量組合化
6.5.3 設(shè)備工藝控制智能化
6.5.4 預(yù)防性維護精益化
第七章 2021-2023年中國清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
7.1 清洗設(shè)備行業(yè)概述
7.1.1 半導(dǎo)體清洗介紹
7.1.2 半導(dǎo)體清洗工藝
7.1.3 清洗設(shè)備的主要類型
7.1.4 清洗設(shè)備的清洗原理
7.2 全球清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
7.2.1 全球清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模
7.2.2 全球清洗設(shè)備行業(yè)競爭格局
7.2.3 全球清洗設(shè)備公司技術(shù)布局
7.2.4 全球清洗設(shè)備市場結(jié)構(gòu)分布
7.3 中國清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
7.3.1 國內(nèi)清洗設(shè)備企業(yè)發(fā)展情況
7.3.2 國內(nèi)清洗設(shè)備行業(yè)技術(shù)發(fā)展
7.3.3 國內(nèi)清洗設(shè)備市場發(fā)展空間
7.4 國內(nèi)清洗設(shè)備廠商中標情況
7.4.1 中標情況概覽
7.4.2 長江存儲
7.4.3 華虹無錫
7.4.4 上海華力
第八章 2021-2023年中國離子注入設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
8.1 離子注入機概述
8.1.1 離子注入工藝
8.1.2 離子注入機組成
8.1.3 離子注入機類型
8.1.4 離子注入機工作原理
8.2 離子注入機應(yīng)用領(lǐng)域分析
8.2.1 光伏應(yīng)用領(lǐng)域
8.2.2 集成電路應(yīng)用領(lǐng)域
8.2.3 面板AMOLED領(lǐng)域
8.3 全球離子注入設(shè)備發(fā)展狀況
8.3.1 行業(yè)市場價值
8.3.2 全球市場規(guī)模
8.3.3 全球市場格局
8.3.4 行業(yè)進入壁壘
8.4 國內(nèi)離子注入設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
8.4.1 行業(yè)相關(guān)政策
8.4.2 行業(yè)供求分析
8.4.3 行業(yè)市場規(guī)模
8.4.4 細分市場分析
8.4.5 市場競爭格局
8.4.6 行業(yè)發(fā)展趨勢
第九章 2021-2023年中國其他晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
9.1 涂膠顯影設(shè)備行業(yè)
9.1.1 涂膠顯影設(shè)備介紹
9.1.2 涂膠顯影工藝流程
9.1.3 涂膠顯影設(shè)備行業(yè)規(guī)模
9.1.4 涂膠顯影設(shè)備行業(yè)格局
9.2 去膠設(shè)備行業(yè)
9.2.1 去膠設(shè)備工藝介紹
9.2.2 去膠設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模
9.2.3 去膠設(shè)備行業(yè)競爭格局
9.2.4 國內(nèi)去膠設(shè)備企業(yè)發(fā)展
9.3 熱處理設(shè)備行業(yè)
9.3.1 熱處理設(shè)備分類
9.3.2 熱處理設(shè)備技術(shù)特點
9.3.3 熱處理設(shè)備行業(yè)規(guī)模
9.3.4 熱處理設(shè)備競爭格局
9.3.5 熱處理設(shè)備中標情況
第十章 2021-2023年晶圓加工設(shè)備行業(yè)下游發(fā)展分析——晶圓制造行業(yè)
10.1 晶圓制造行業(yè)概述
10.1.1 行業(yè)發(fā)展歷程
10.1.2 企業(yè)經(jīng)營模式
10.1.3 行業(yè)技術(shù)發(fā)展
10.2 全球晶圓制造業(yè)發(fā)展分析
10.2.1 全球晶圓制造業(yè)發(fā)展態(tài)勢
10.2.2 全球晶圓制造產(chǎn)能分析
10.2.3 全球晶圓代工市場規(guī)模
10.2.4 全球晶圓代工市場份額
10.2.5 全球晶圓代工企業(yè)擴產(chǎn)
10.3 全球晶圓代工產(chǎn)業(yè)格局
10.3.1 專屬晶圓代工廠排名
10.3.2 晶圓代工TOP10企業(yè)
10.3.3 晶圓二線專屬代工企業(yè)
10.3.4 IDM兼晶圓代工企業(yè)
10.4 中國晶圓制造業(yè)發(fā)展分析
10.4.1 晶圓制造行業(yè)規(guī)模
10.4.2 晶圓制造行業(yè)產(chǎn)量
10.4.3 晶圓制造區(qū)域發(fā)展
10.4.4 晶圓制造并購分析
10.4.5 芯片制程升級需求
10.4.6 晶圓制造發(fā)展機遇
10.5 中國晶圓代工市場運行分析
10.5.1 晶圓代工市場發(fā)展規(guī)模
10.5.2 國內(nèi)晶圓廠生產(chǎn)線發(fā)展
10.5.3 本土晶圓代工公司排名
10.5.4 晶圓代工市場發(fā)展預(yù)測
第十一章 2019-2021年國外晶圓加工設(shè)備主要企業(yè)經(jīng)營情況
11.1 應(yīng)用材料（AMAT）
11.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.1.2 2021年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.1.3 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.1.4 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.2 泛林半導(dǎo)體（Lam）
11.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.2.2 2021年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.2.3 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.2.4 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.3 東京電子（TEL）
11.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.3.2 2021年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.3.3 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.3.4 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.4 先晶半導(dǎo)體（ASMI）
11.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.4.2 2021年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.4.3 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.4.4 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
第十二章 2020-2023年國內(nèi)晶圓加工設(shè)備主要企業(yè)經(jīng)營情況
12.1 拓荊科技
12.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.1.2 經(jīng)營效益分析
12.1.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.1.4 財務(wù)狀況分析
12.1.5 核心競爭力分析
12.1.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.1.7 未來前景展望
12.2 北方華創(chuàng)
12.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.2.2 經(jīng)營效益分析
12.2.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.2.4 財務(wù)狀況分析
12.2.5 核心競爭力分析
12.2.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.2.7 未來前景展望
12.3 中微公司
12.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.3.2 經(jīng)營效益分析
12.3.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.3.4 財務(wù)狀況分析
12.3.5 核心競爭力分析
12.3.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.3.7 未來前景展望
12.4 盛美上海
12.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.4.2 企業(yè)主營產(chǎn)品
12.4.3 經(jīng)營效益分析
12.4.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.4.5 財務(wù)狀況分析
12.4.6 核心競爭力分析
12.4.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.4.8 未來前景展望
12.5 至純科技
12.5.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.5.2 企業(yè)主要業(yè)務(wù)
12.5.3 經(jīng)營效益分析
12.5.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.5.5 財務(wù)狀況分析
12.5.6 核心競爭力分析
12.5.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.5.8 未來前景展望
12.6 萬業(yè)企業(yè)
12.6.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.6.2 經(jīng)營效益分析
12.6.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.6.4 財務(wù)狀況分析
12.6.5 核心競爭力分析
12.6.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.6.7 未來前景展望
12.7 屹唐股份
12.7.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.7.2 經(jīng)營效益分析
12.7.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.7.4 財務(wù)狀況分析
12.7.5 核心競爭力分析
12.7.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.7.7 未來前景展望
12.8 華海清科
12.8.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.8.2 拋光墊產(chǎn)品發(fā)展
12.8.3 經(jīng)營效益分析
12.8.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.8.5 財務(wù)狀況分析
12.8.6 核心競爭力分析
12.8.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.8.8 未來前景展望
第十三章 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)項目投資案例
13.1 拓荊科技原子層沉積（ALD）設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目
13.1.1 項目基本情況
13.1.2 項目投資概算
13.1.3 項目進度安排
13.1.4 項目效益分析
13.2 盛美上海清洗設(shè)備研發(fā)項目
13.2.1 項目基本情況
13.2.2 項目價值分析
13.2.3 項目投資概算
13.2.4 項目效益分析
13.3 屹唐股份刻蝕設(shè)備研發(fā)項目
13.3.1 項目基本情況
13.3.2 項目進度安排
13.3.3 項目價值分析
13.3.4 項目效益分析
13.4 華海清科化學(xué)機械拋光設(shè)備項目投資案例
13.4.1 項目基本情況
13.4.2 項目投資價值
13.4.3 項目投資概算
13.4.4 項目效益分析
第十四章 2023-2027年晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景及趨勢預(yù)測
14.1 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景
14.1.1 行業(yè)面臨機遇
14.1.2 國產(chǎn)替代前景
14.1.3 下游市場趨勢
14.2 2023-2027年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)預(yù)測分析
14.2.1 2023-2027年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)影響因素分析
14.2.2 2023-2027年中國晶圓加工設(shè)備市場規(guī)模預(yù)測
圖表目錄
圖表 集成電路主要設(shè)備投資比例
圖表 晶圓制造主要步驟使用工藝及設(shè)備
圖表 主要晶圓加工設(shè)備介紹及其國內(nèi)外制造企業(yè)
圖表 氧化工藝的用途
圖表 光刻工藝流程圖
圖表 光刻工藝流程
圖表 等離子刻蝕原理
圖表 濕法刻蝕和干法刻蝕對比
圖表 離子注入與擴散工藝比較
圖表 離子注入機示意圖
圖表 離子注入機細分市場格局
圖表 IC集成電路離子注入機市場格局
圖表 三種CVD工藝對比
圖表 蒸發(fā)和濺鍍PVD工藝對比
圖表 半導(dǎo)體清洗的污染物種類、來源及危害
圖表 近年與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)的扶持政策
圖表 2010-2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額
圖表 2020年全球前十大半導(dǎo)體設(shè)備廠商銷售額
圖表 半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)政策
圖表 2012-2020年中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額
圖表 國產(chǎn)半導(dǎo)體裝備產(chǎn)業(yè)銷售額
圖表 2020 年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額和占比
圖表 2020年全球各類晶圓制造設(shè)備市場規(guī)模
圖表 2014-2020年全球各地區(qū)集成電路制造設(shè)備市場規(guī)模
圖表 國產(chǎn)集成電路制造設(shè)備國產(chǎn)化進程
圖表 2021年國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備招投標數(shù)據(jù)總覽
圖表 2022年國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備招投標數(shù)據(jù)總覽
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