真空鍍膜是指在真空條件下，將金屬或非金屬材料蒸發(fā)或?yàn)R射鍍于基體表面形成薄膜的技術(shù)。真空鍍膜材料，是應(yīng)用在真空鍍膜工藝中，蒸發(fā)、濺射、沉積在基體表面形成薄膜的各種材料。
　　真空鍍膜可以提升基體的物理性能、化學(xué)性能、使用壽命等，真空鍍膜材料、基體材料可選擇范圍寬，薄膜厚度可控制，膜層均勻度好、致密度好、與基體結(jié)合強(qiáng)度高，且鍍膜過(guò)程中對(duì)環(huán)境污染小，是一種先進(jìn)的鍍膜工藝。2018-2023年，我國(guó)真空鍍膜市場(chǎng)規(guī)模年復(fù)合增長(zhǎng)率為10.8%，呈現(xiàn)持續(xù)快速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，利好真空鍍膜材料行業(yè)發(fā)展。
　　真空鍍膜材料包括金屬材料、合金材料、氧化物材料、氮化物材料、碳化物材料、復(fù)合材料等幾大類(lèi)，細(xì)分產(chǎn)品例如鋁、鉻、銀、鈦鋁、鉻鎳、鋁硅銅、二氧化硅、氧化鋁、氧化鋯、氮化硅、碳化硼等。其中，銀導(dǎo)電導(dǎo)熱性好，可用于電子器件導(dǎo)電薄膜制備中，鉻鎳耐高溫耐腐蝕，可用于工作在復(fù)雜條件下的工業(yè)設(shè)備鍍膜中，氧化鋁導(dǎo)電且耐腐蝕，氧化鋯硬度高且耐熱，氮化鋁導(dǎo)熱且絕緣，性質(zhì)各不相同。
　　真空鍍膜材料可以采用濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜、離子鍍膜、物理氣相沉積鍍膜（PVD）、化學(xué)氣相沉積鍍膜（CVD）、原子層沉積鍍膜（ALD）、脈沖激光沉積鍍膜（PLD）等方法鍍于基體表面形成膜層，可以采用的基體材料包括塑料、薄膜、紙張、金屬、合金等，能夠提高基體的反射、防水、導(dǎo)電、絕緣、耐磨、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化等性能以及表面質(zhì)量。
　　采用不同真空鍍膜材料，利用不同鍍膜工藝可以得到性能不同的鍍膜產(chǎn)品，下游應(yīng)用領(lǐng)域存在一定差異�？偟膩�(lái)看，真空鍍膜材料可以廣泛應(yīng)用在電子、光學(xué)儀器、醫(yī)療器械、新能源、照明、汽車(chē)、機(jī)械設(shè)備、航天、珠寶首飾、包裝等眾多行業(yè)，例如在電子行業(yè)中可用作半導(dǎo)體器件、微電子器件、反射鏡面、絕緣保護(hù)涂層、高溫傳感器等制備領(lǐng)域，市場(chǎng)發(fā)展空間大。
我國(guó)最新《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2024年本）》中，鼓勵(lì)類(lèi)項(xiàng)目包括新能源、半導(dǎo)體照明、電子領(lǐng)域用連續(xù)性金屬卷材、真空鍍膜材料、高性能箔材，這將推動(dòng)我國(guó)真空鍍膜材料行業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大、市場(chǎng)需求不斷增長(zhǎng)。