射頻離子源，指利用射頻電場來實現(xiàn)氣體電離，進而產(chǎn)生等離子體和離子束的裝置。相比其他類型離子源，射頻離子源具備使用壽命長、可調(diào)節(jié)能量分散低、離子產(chǎn)率高、安全穩(wěn)定性好等優(yōu)勢，在醫(yī)療衛(wèi)生、半導體制造、通信系統(tǒng)、材料科學等領(lǐng)域應用較多。
為規(guī)范市場發(fā)展，我國有關(guān)部門已出臺多項射頻離子源相關(guān)行業(yè)標準及團體標準。2024年12月，中國商業(yè)企業(yè)管理協(xié)會發(fā)布團體標準《T/ACCEM 456—2024 離子輔助沉積用射頻離子源》，文件對于射頻離子源的試驗方法、檢驗規(guī)則、產(chǎn)品參數(shù)以及技術(shù)要求等內(nèi)容進行了明確規(guī)范。未來伴隨行業(yè)標準不斷完善，我國高品質(zhì)射頻離子源市場占比有望提升。
射頻離子源用途廣泛，主要包括醫(yī)療衛(wèi)生、半導體制造、通信系統(tǒng)、材料科學等。在醫(yī)療衛(wèi)生領(lǐng)域，射頻離子源可用于醫(yī)療器械表面處理、藥物合成、癌癥治療等場景；在半導體制造領(lǐng)域，其可用于晶圓刻蝕工藝以及薄膜沉積工藝中，該領(lǐng)域為其最大需求端；在材料科學領(lǐng)域，其可用于制造光學薄膜。
全球射頻離子源市場主要參與者包括美國Kaufman & Robinson,Inc公司（KRI）、美國Denton Vacuum公司、德國SCIA Systems公司、德國IPT公司等。美國KRI公司推出的考夫曼離子源具備離子束濃度低、可提供高能量等優(yōu)勢，在鍍膜、刻蝕、離子清洗、離子拋光等工藝中應用廣泛，為全球射頻離子源代表企業(yè)。
在行業(yè)發(fā)展初期，受技術(shù)壁壘高、運行成本高等因素限制，我國射頻離子源高度依賴進口。近年來，隨著本土企業(yè)持續(xù)發(fā)力，我國射頻離子源市場國產(chǎn)化進程有所加快。博頓光電、福光股份、鑫立離子技術(shù)、中核同創(chuàng)等為我國射頻離子源主要布局企業(yè)。博頓光電專注于離子束技術(shù)及其設備產(chǎn)品的研發(fā)、制造和應用，目前已開發(fā)出矩形射頻離子源等離子源產(chǎn)品。2024年9月，博頓光電完成億元B輪融資，資金將用于開發(fā)高性能離子束設備。
射頻離子源在眾多領(lǐng)域擁有廣闊應用前景，未來伴隨全球半導體產(chǎn)業(yè)逐漸向我國大陸轉(zhuǎn)移，其市場需求將進一步增長。在市場競爭方面，歐美國家長期占據(jù)全球射頻離子源市場主導地位。近年來，受益于技術(shù)進步，我國國產(chǎn)射頻離子源市場占比有所提升。