3D NAND光刻膠，指用于3D NAND制備過(guò)程中的光刻膠。3D NAND光刻膠需具備蝕刻抗性好、分辨率高、厚膜涂布性能佳、對(duì)曝光光源有較高靈敏度等特點(diǎn)，國(guó)防軍工、消費(fèi)電子、數(shù)據(jù)中心、航空航天以及汽車(chē)制造等領(lǐng)域?yàn)槠浣K端市場(chǎng)。
國(guó)家對(duì)于光刻膠行業(yè)發(fā)展高度重視，已出臺(tái)多項(xiàng)相關(guān)政策，主要包括《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2024年本）》、《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄（2024年版）》、《工業(yè)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)分類(lèi)目錄（2023）》、《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》等。未來(lái)伴隨國(guó)家政策支持，我國(guó)3D NAND光刻膠行業(yè)發(fā)展速度有望加快。
KrF光刻膠為3D NAND光刻膠代表產(chǎn)品。KrF光刻膠，又稱(chēng)氟化氪光刻膠，具備能快速曝光、耐化學(xué)腐蝕、耐濕熱、分辨率高等優(yōu)勢(shì)，可用于3D NAND芯片的曝光、涂布、蝕刻以及顯影工藝中。近年來(lái)，隨著研究深入，KrF光刻膠技術(shù)不斷進(jìn)步，帶動(dòng)其產(chǎn)量及質(zhì)量持續(xù)提升，這將為3D NAND光刻膠行業(yè)發(fā)展提供有利條件。
3D NAND光刻膠主要應(yīng)用于3D NAND制備過(guò)程中。3D NAND為新一代閃存芯片，具備存儲(chǔ)容量大、讀寫(xiě)速度快、功耗低等優(yōu)勢(shì)，在國(guó)防軍工、消費(fèi)電子、數(shù)據(jù)中心等眾多領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。隨著應(yīng)用需求增長(zhǎng)，3D NAND行業(yè)發(fā)展空間持續(xù)擴(kuò)展。2024年全球3D NAND市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到近550億美元，創(chuàng)造歷史新高。3D NAND光刻膠可用于3D NAND圖案化環(huán)節(jié)，未來(lái)其市場(chǎng)空間將進(jìn)一步擴(kuò)展。
全球3D NAND光刻膠市場(chǎng)主要集中于日韓國(guó)家，代表企業(yè)包括韓國(guó)東進(jìn)化學(xué)公司（Dongjin）、日本住友化學(xué)株式會(huì)社（Sumitomo Chemical）、日本JSR株式會(huì)社等。在本土方面，我國(guó)3D NAND光刻膠行業(yè)起步較晚，但發(fā)展勢(shì)頭迅猛，已有多家企業(yè)具備其自主研發(fā)及生產(chǎn)實(shí)力，主要包括恒坤新材、鼎龍股份、太紫微等。恒坤新材生產(chǎn)的KrF光刻膠可用于128層及以上3D NAND芯片制備過(guò)程中。
受益于3D NAND行業(yè)發(fā)展速度加快，3D NAND光刻膠應(yīng)用需求日益旺盛。在行業(yè)發(fā)展初期，受技術(shù)壁壘高、生產(chǎn)成本高等因素限制，日韓國(guó)家占據(jù)全球3D NAND光刻膠市場(chǎng)主導(dǎo)地位。未來(lái)伴隨國(guó)家政策支持以及技術(shù)進(jìn)步，我國(guó)3D NAND光刻膠行業(yè)發(fā)展態(tài)勢(shì)將持續(xù)向好。