掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關(guān)鍵部件之一，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

市場規(guī)模

掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版，是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中重要的關(guān)鍵材料，其中，半導體是掩膜版最主要的應(yīng)用領(lǐng)域，占比60%。2018-2022年，全球半導體掩膜版市場規(guī)模由40.41億美元增長至49億美元，復合年均增長率達4.9%，預計2024年半導體掩膜版市場規(guī)模將繼續(xù)增長至53.24億美元。

重點企業(yè)分析

從行業(yè)競爭格局來看，美國、日韓掩膜版廠商處于領(lǐng)先地位。重點企業(yè)主要包括福尼克斯、PKL、豐創(chuàng)光罩。